■ 设备用途：

热丝化学气相沉积设备适用于沉积生长金刚石材料，包括薄膜涂层、自支撑厚膜、微晶及纳米晶金刚石、导电金刚石等。主要应用于硬质合金刀具的耐磨保护涂层，硅及碳化硅等半导体材料，器件的散热涂层、半导体石墨托盘表面镀层等。

 ■设备参数：

真空室构成：双层水冷结构，立式圆形、立式D形、立式矩形、卧式矩形；

热丝材料：钽丝、或钨丝；

热丝温度：1800℃～ 2500℃可调；

样品台：可水冷、可加偏压、可旋转、可升降，热丝与衬底间距在5 ～ 100mm范围内可调。